攸關臺積5nm先進制程布局的南科環(huán)境影響差異分析報告案昨（24）日通過專案小組審查。臺積電表示，臺積5nm制程將在明年動工，計劃在2020年量產，迎戰(zhàn)三星。

　　南科第一期和第二期環(huán)評分別于1996年及2003年通過，因臺積電和聯(lián)電更新半導體制程，須增加用水用電量，依規(guī)定須辦理環(huán)差變更，環(huán)保署昨日召開南科環(huán)境影響差異分析報告專案小組第三次審查會議。

　　南科管局長林威呈昨天出席作簡報，包括臺積電和聯(lián)電都派代表參加，臺積電副處長陳鏘澤特地向環(huán)評委員及環(huán)團解釋半導體制程為何快速更新。他說，半導體產業(yè)技術根據(jù)Moore‘s Law，持續(xù)推進縮小積體電路線寬，以制造更節(jié)能、更環(huán)保的產品，約每兩年增加一倍電晶體數(shù)目，每18個月晶片效能提升一倍。

　　他舉例，5nm晶粒是28nm的14%，且單位晶粒生產用電用水量分別是28nm的43%及37%，因5nm的產品技術門檻高，市占率及單位產值亦將隨之成長。臺積電和三星競爭早已從10nm訂單往前延伸到未來新制程，臺積必須進入5nm制程，若能通過環(huán)差審查，5nm制程預計明年就可動工。

　　因更新制程，南科每日增加5萬噸用水量、70萬千瓦用電量。林威呈表示，南科承諾未來將采用1.25萬噸的永康再生水、及園區(qū)2萬噸工業(yè)回收再生水，將在南科環(huán)三用地上設置再生水廠。