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臺積電12nm受歡迎或因10nm產能不足

2017-05-15

臺積電10nm工藝遭遇了頗多波折,目前的情況看來其產能在三季度只能供給蘋果,這迫使華為海思、聯發科等改用12nm FinFET工藝,也就意味著它們的麒麟970、helio P35很可能會放棄10nm工藝。

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臺積電的10nm進展遠不如預期,它本來預計去年底就投產的,但是到了今年初才量產,而在正式量產后又遭遇了良率較低的問題,這導致首家采用該工藝的聯發科遭受了重大挫折。

聯發科本來是計劃通過在其新款芯片上全面采用先進的10nm工藝獲得更好的性能和功耗表現來與高通競爭的,但是其X30芯片受臺積電10nm工藝的影響失去了時機,如今僅剩魅族尚未決定是否采用該款芯片。

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當下傳出本欲采用臺積電12nm吸引了華為海思、聯發科、NVIDIA,也就很可能意味著其10nm工藝產能和良率都難以達到預期,而迫使這幾家芯片企業不得不放棄采用10nm工藝而改用12nm工藝。

另有消息指,臺積電在三季度會將其10nm工藝產能全力供應蘋果用于生產A11處理器,確保它采用該芯片的iPhone7s和iPhone8能如期發布,當然也有消息指這兩款手機可能上市時間會延遲到10月份,這也確證了臺積電的10nm工藝面臨的問題。

聯發科方面估計是它的helio P35會改用12nm工藝,這款芯片原計劃在三季度采用10nm工藝生產的,采用12nm工藝其實對于它來說影響并不太大,因為這款芯片定位為中端市場,主要考慮的因素是價格,而12nm工藝的成本更低。

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對于華為海思來說,影響就會比較大。華為海思下半年計劃推出新一代高端芯片麒麟970,如果這款芯片改用12nm工藝,意味著其性能可能難以達到預期水平,將難以與高通的驍龍835競爭。去年華為的麒麟960在性能方面成功擊敗高通的高端芯片驍龍821,臺積電的16nm FinFET工藝能耗優于驍龍821所采用的三星14nm FinFET無疑起了相當大的租用。

對于臺積電來說,10nm工藝當前的產能和良率問題也會影響到它的7nm工藝量產,筆者很懷疑它在16nm FinFET、10nm工藝上都落后三星的情況下,這次在7nm工藝上也將落后于三星,當然臺媒所傳聞的高通回歸臺積電就更是不可能的消息了。


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