日前，業(yè)內領先的半導體設備供應商ASML發(fā)布了公司2020年第三季度的財報。財報顯示，凈銷售額（net sales）金額為 40 億歐元，凈利潤金額（net income）為 11 億歐元，毛利率（gross margin）達到 47.5%。從訂單上看，公司在第三季度新增訂單（net booking）金額為 29 億歐元。

　　據該公司首席執(zhí)行官Peter Wennink 介紹，ASML在第三季度一共交付了 10 臺 EUV 系統，并在本季度實現了 14 臺系統的銷售收入。而在第三季度的新增訂單達到 29 億歐元，其中 5.95 億歐元來自 4 臺 EUV 設備。從這個說明我們可以看到，ASML EUV光刻機的售價約為1.48億歐元，折合人民幣11.74億元。

　　從上圖可以看到，EUV光刻機占公司營收的比重，從上個月的39%躍升到本月的66%。而從終端用戶的數據來看，這些購買者主要集中在logic方面的客戶方面。而從該地區(qū)上看，中國臺灣地區(qū)貢獻的營收從上季度21%提升到本季度的47%，由此可以見到，這主要是由臺積電采購EUV光刻機引發(fā)的轉變。

　　與此同時，韓國貢獻的營收正在下降，從中可以看出點端倪，也能理解為何三星的高管最近去荷蘭拜訪ASML總部，相信是為了爭取更多的光刻機。

　　在談到第四季度的預測，ASML方面表示，我們期待第四季度的銷售額將在 36 億歐元到 38 億歐元之間，毛利率約在 50%。研發(fā)成本約 5.5 億歐元， 銷售及管理費用約 1.4 億歐元。我們將實現 2020 年全年的銷售預期。預估 2020 年度有效稅率在 14%左右。

　　在發(fā)布EUV財務數據的同時，ASML還帶來了兩款新設備，分別是DUV領域的TWINSCAN NXT:2050i和EUV領域的TWINSCAN NXE：3600D

　　ASML進一步指出，NXT：2050i 基于 NXT 平臺的新版本，其中包括掩模版工作臺，晶圓工作臺，投影物鏡和曝光激光器的技術改進。由于這些創(chuàng)新，該系統提供了比其前身更好的套刻精度控制，并具有更高的生產率。

　　他們也表示，在 EUV 光刻業(yè)務領域，公司絕大部分 TWINSCAN NXE:3400B 系統在客戶處同時進行了生產率模組的升級。而TWINSCAN NXE：3600D 則是公司EUV 路線圖上的新機型， 30 mJ / cm2 的曝光速度達到每小時曝光 160 片晶圓， 提高了 18%的生產率， 并改進機器匹配套準精度至 1.1 納米。根據計劃，他們將于2021 年的中期開始發(fā)貨。

　　據相關資料顯示，目前，ASML已經投產的最先進光刻機是3400C，但主力出貨型號是3400B。參數方面，3400B的套刻精度為2nm、曝光速度20mJ/cm2，每小時可曝光125片晶圓。

　　附公司財報說明會文件：