隨著半導體制程工藝進入7nm及以下節點，EUV光刻機成為最為關鍵的設備。之前臺積電、三星都依賴于ASML的EUV光刻機量產了5nm的芯片，不過目前EUV光刻機主要都還是應用在邏輯芯片的制造上。而現在，存儲芯片廠商也開始引入EUV光刻機，推動存儲芯片的制程工藝。
近日，SK海力士與ASML公司簽訂了一個超級大單，豪擲4.8萬億韓元（約35.7億歐元）搶購EUV光刻機。SK海力士在一份監管文件中稱，這筆交易是為了實現下一代工藝芯片量產的目標。
雖然，ASML及SK海力士都沒有透露這么多資金到底購買了多少臺EUV光刻機，不過從之前一臺EUV光刻機均價1億歐元的數據來看，SK海力士這次購買的EUV光刻機大約是35臺左右。要知道去年全年ASML的EUV光刻機的銷量也不過31臺。
據了解，作為全球第二大內存芯片廠商的SK海力士，這次購買的EUV光刻機主要是用于新一代內存顆粒。對內存來說，它跟CPU邏輯工藝一樣面臨著需要微縮的問題，EUV光刻機可以減少多重曝光工藝，提供工藝精度，從而可以減少生產時間、降低成本，并提高性能。值得一提的是，此前就有消息稱SK海力士今年下半年在利川廠區M16采用EUV光刻機生產第四代（1a nm）DRAM產品。
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